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在芯片生產(chǎn)過程中,光刻機(jī)起著至關(guān)重要的作用,光刻機(jī)的技術(shù)直接決定了芯片的性能。隨著半導(dǎo)體技術(shù)進(jìn)入7nm以內(nèi),EUV光刻機(jī)是不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備,世界上只有ASML公司生產(chǎn)。
目前NA 0.33光圈的EUV光刻機(jī)價(jià)格高達(dá)1.5億美元,約合10億,下一代會更貴。
現(xiàn)在NA 0.33口徑的EUV光刻機(jī)已經(jīng)可以量產(chǎn)3nm和2nm工藝,接下來就需要下一代NA 0.55口徑的光刻機(jī),也就是高NA EUV,2nm以下的工藝是必須的。
高NA EUV光刻機(jī)不僅價(jià)格昂貴,而且使用起來也越來越貴,因?yàn)楣臅粩嗌仙?。ASML最近證實(shí),高NA EUV光刻將消耗額外的0.5毫瓦功耗,加上當(dāng)前的1.5毫瓦功耗。
下一代光刻機(jī)總功耗將達(dá)到2MW,即200萬瓦。如果一天24小時(shí)運(yùn)行,那么下一代光刻機(jī)每天要消耗48000度電,這對芯片廠商來說是非常高的,是絕對的電老虎。
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