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在芯片生產(chǎn)過程中，光刻機起著至關(guān)重要的作用，光刻機的技術(shù)直接決定了芯片的性能。隨著半導(dǎo)體技術(shù)進(jìn)入7nm以內(nèi)，EUV光刻機是不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備，世界上只有ASML公司生產(chǎn)。
目前NA 0.33光圈的EUV光刻機價格高達(dá)1.5億美元，約合10億，下一代會更貴。
現(xiàn)在NA 0.33口徑的EUV光刻機已經(jīng)可以量產(chǎn)3nm和2nm工藝，接下來就需要下一代NA 0.55口徑的光刻機，也就是高NA EUV，2nm以下的工藝是必須的。
高NA EUV光刻機不僅價格昂貴，而且使用起來也越來越貴，因為功耗會不斷上升。ASML最近證實，高NA EUV光刻將消耗額外的0.5毫瓦功耗，加上當(dāng)前的1.5毫瓦功耗。
下一代光刻機總功耗將達(dá)到2MW，即200萬瓦。如果一天24小時運行，那么下一代光刻機每天要消耗48000度電，這對芯片廠商來說是非常高的，是絕對的電老虎。
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